日本高端芯片产业关键一步 美光或在日制造下一代DRAM

①今日,日本首相岸田会见包括美光CEO在内的芯片高管团,会后预计宣布半导体产业的最新动态;
②消息人士表示,美光将获得日本政府财政资金,以购置新EUV设备,并开始研发新一代DRAM芯片。

清一色财经5月18日讯(编辑 马兰)知情人士称,美国美光科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV(极紫外光刻机),以制造下一代存储芯片(DRAM)。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元(15亿美元)的补贴。

日本经济产业大臣西村康稔之后证实了美光在日的进一步投资。他指出,日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性,美光也有意在广岛开始大规模生产先进记忆芯片。

今日(周四),日本首相岸田文雄会见了美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团,而有关芯片的详细计划可能在之后陆续宣布。

研究公司Omdia的分析师Akira Minamikawa表示,美光的广岛工厂将在G7半导体供应链计划雄心中发挥关键作用,这将成为美国公司发展的最重要地区之一。

自2013年以来,美光已经在日本投资超过130亿美元,其中包括去年宣布的1-β存储芯片。而最新的投资将帮助美光在日本生产所谓的1-γ芯片,这是美光计划在2024年底推出的更先进技术。

日本的产业雄心

美光新引入最先进的光刻机并开始1-γ芯片的开发,也代表着日本在芯片尖端领域的最新一步。

除了研发DRAM的美光之外,日本政府还花费数十亿美元鼓励台积电增加其在日本的芯片产能,并为日本本土芯片企业Rapidus提供资金,以实现在2027年生产2纳米芯片的梦想。

除了政府的财政支持之外,美光也将向日本工厂追加自有投资,但目前其尚未披露确切消息。此外,广岛市政府也可能提供额外的资源。

而由于芯片行业供应过剩,美光正在削减成本保留实力,但其认为2023年下半年可能会看到DRAM市场触底反弹。

美光此前曾表示将2023财年的资本支出预算同比削减30%至约80亿美元,其中晶圆厂设备资本支出同比将削减近50%。日本政府的财政补贴无疑是帮助美光购置新EUV设备,推动1-γ芯片进程的关键动力。

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